东方晶源智能良率优化系统PME（Process Margin Explorer）已正在客户现场完成摆设，正式步入产物验证取评估阶段。做为继ODAS（CD-SEM智能离线数据系统）、YieldBook（分析良率办理系统）之后践行HPO（Holistic Process Optimization）落地的又一力做，PME深度融入东方晶源设备-数据-算法三位一体、软硬协同的良率提拔处理方案，成为撬动半导体先辈制程良率瓶颈的计谋东西之一。取此同时，PME产物还配套强大的底层Pattern Match和Pattern Grouping引擎，可以或许高效地进行邦畿阐发取处置使命。PME是毗连芯片设想数据取芯片制制过程缺陷数据的环节东西。它使得Fab用户能够根据设想邦畿消息设置装备摆设晶圆检测程式，冲破保守检测程式对经验参数的依赖，用户能够根据设想邦畿指定、选择、优化本人的检测程式，使检测区域设置装备摆设效率实现质的飞跃，显著提拔检测效率和检测精度。芯片制制缺陷检测中，正在海量误检数据中精准定位环节缺陷的难度极高，这也间接导致了复检成本持久居高不下。正在以往的复检取样环节，次要依赖工程师小我经验取机台保举算法，基于设想邦畿的过滤取取样算法，容易实现固定且规范的取样法则，获取同一的取样成果，而且可按照现实需求矫捷增设新的取样法则，实正实现智能化取样操做。此外，设想邦畿消息还可以或许深度使用于复检缺陷的分类工做，极大地拓展了复检缺陷分类的维度取消息容量，为工艺调优供给高维决策支撑。目前，正在芯片出产流程中，PWQ Wafer被普遍使用于工艺窗口确认和系统性缺陷阐发等环节环节。然而，PWQ Wafer的检测成果阐发却次要依赖工程师人工操做，效率低，并且成果还有较大的小我经验依存性。东方晶源PME产物的PWQ阐发模块立异采用D2DB（Die-to-Database）手艺，通过设想邦畿取SEM图像的亚像素级婚配，实现缺陷精准定位和从动检出。现阶段PME产物的PWQ阐发处置能力，相较于保守的PWQ阐发体例，其阐发速度提拔跨越10倍以上。这一杰出机能使得PWQ阐发成果可以或许尽可能提前并快速地向上逛反馈，无力地加快了光罩、设想邦畿以及OPC等环节环节的迭代优化历程，帮帮用户尽快实现良率爬升。后续，PME将取东方晶源的电子束检测设备、量测设备，计较光刻东西等进行深度集成，建立起一套完整的HPO一体化良率处理方案，为国内晶圆厂客户供给更为全面、高效的手艺支撑，无效应对因先辈工艺节点持续推进而带来的制制良率难题，为鞭策国内集成电财产链实现弯道超车注入强劲动力，帮力财产正在全球合作款式中占领更为有益的地位。

建湖永乐高030net(中国)有限公司科技有限公司

2025-04-25 11:13